Акції Intel Corporation (INTC) зросли до 120,61, на 3,05%, після нестабільної сесії, яка завершилася впевненим відновленням. Спочатку акція впала, але потім повернула позиції та закрилася поблизу внутрішньоденних максимумів. Рух відбувся після свіжих оновлень Intel Foundry на симпозіумі VLSI 2026.
Intel Corporation, INTC

Intel Foundry повідомила, що Intel 18A-P вступив у ризикове виробництво, відповідно до графіку, погодженого з клієнтами торік. Це оновлення стало першим покращенням продуктивності в межах процесної сім'ї Intel 18A. Воно також зміцнило позицію Intel щодо довгострокового виконання ливарних замовлень.
Компанія представила Intel 18A-P як сумісне з дизайном оновлення Intel 18A. Завдяки такій сумісності клієнти можуть повторно використовувати наявну інтелектуальну власність та потоки дизайну. Такий підхід може зменшити труднощі під час переходу розробників чипів до вдосконаленого процесу.
Intel заявила, що 18A-P забезпечує на 9% вищу продуктивність за тієї ж потужності. Він також пропонує на 18% нижчу потужність за того ж рівня продуктивності. При цьому процес додає кращі теплові характеристики та ширші варіанти дизайну.
Intel представила Power Boost — опцію транзистора з подвійним контактом для Intel 18A-P. Ця функція знижує опір, збільшує струм навантаження та підтримує вищу частоту за однакової ємності. У результаті розробники отримують ще один спосіб підвищити продуктивність чипа.
Компанія також повідомила про покращення теплового опору на 20–40%. Intel зазначила покращення опору переходів на 10–30% завдяки змінам матеріалів та геометрії. Ці оновлення спрямовані на теплообмін, подачу живлення та передачу сигналів між шарами чипа.
Intel також додала нові варіанти транзисторів з низьким енергоспоживанням та високою продуктивністю. Включена п'ята пара порогів напруги логіки між ULVT та LVT. Таким чином розробники отримують більше гнучкості при баланасуванні швидкості, потужності та ефективності.
Intel використала захід VLSI для зв'язку 18A-P з попередньою роботою над Intel 18A. Торік компанія вивела на ринок транзистори типу gate-all-around та подачу живлення з тильного боку. Ці технології тепер підтримують наступні покращення процесів та майбутні плани масштабування.
Intel представила дослідження, що демонструє скорочення маршрутизованої площі на 11% та зниження динамічного просідання напруги в 10 разів. Компанія заявила, що ці покращення можуть підтримати підвищення частоти до 6%. Вони також можуть забезпечити більш ніж на 15% нижчу динамічну потужність порівняно з аналогічною фронтальною технологією.
Intel також показала довгострокові дослідження у сферах CFET, інтеграції GaN та міжз'єднань на основі рутенію. Робота з CFET передбачала укладання пристроїв NMOS та PMOS з кроком затвору 45 нм. Водночас дослідження GaN та рутенію були спрямовані на управління живленням, масштабування міжз'єднань та майбутню ефективність чипів.
The post Intel Corporation (INTC) Stock: 18A-P Risk Production Boosts Foundry Roadmap appeared first on CoinCentral.


